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X射线光电子能谱(XPS)-成都

样品要求

1. 预处理尺寸要求:块状/片状/薄膜:长宽厚不超出1 cm × 1 cm × 3 mm(磁性样品尽量小)(对块状样品或薄膜样品的测试面做好标记);粉末样品大于200目,不少于10mg,量少请用称量纸包好再装到管子里寄送。请勿用手触摸样品表面,会引入污染。制好样后请尽快密封,避免其他物质污染;

2. 送样前样品需充分干燥,否则影响仪器真空度。高分子样品在送样前应进行干燥处理。若含有高挥发性分子等请务必烘烤;

3. 样品含有硫、碘等卤族元素请务必填写或者提前告知,避免污染高真空系统;

4. 样品在超高真空及在X射线、紫外线、电子束或Ar离子束照射下应稳定,不分解、不释放气体。

案例

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功能

X射线光电子能谱法是一种表面分析方法,提供的是样品表面的元素含量与形态。

如果辅以离子刻蚀手段,再利用XPS作为分析方法,则可以实现对样品的深度分析。

一、XPS的特点

1. 可以分析除 H 和 He 以外的所有元素

2. 提供有关化学键方面的信息,即直接测量价层电子及内层电子轨道能级;

3. 是一种高灵敏超微量的表面分析技术,分析所需试样量极少,样品分析深度为0.5-10nm

二、XPS的应用

1. 元素定性分析;

2. 元素半定量分折;

3. 固体表面分析;

4. 化合物结构鉴定。